Protótipos de nanotecnologia com E-feixe Nanolithography

E-feixe nanolithography é utilizado em laboratórios de nanotecnologia para criar protótipos de circuitos integrados e outros semicondutores. É como a litografia por ultravioleta em que um feixe de electrões é focada no fotorresistente. No entanto, há algumas diferenças significativas entre os dois métodos.

Por exemplo, os campos eléctricos são usados ​​em vez de uma lente para focar o feixe. Além disso, em vez de utilizar uma máscara para definir um padrão sobre o fotorresistente, o feixe move-se para criar o padrão. Toda a operação ocorre em um vácuo, porque o ar ou qualquer outros blocos substância o movimento dos elétrons.

Você pode comprar sistemas nanolithography e-feixe caros (para alguns milhões) ou modificar o microscópio eletrônico de varredura (SEM) que você tem em seu laboratório para desenhar padrões no resistir. Ambos os sistemas dedicados e sistemas modificados são versáteis na produção de qualquer padrão de um pesquisador pode pensar.

Sistemas projetados a partir do zero especificamente para nanolithography pode escrever características tão pequenas quanto 10 nm de largura. Esta capacidade torna estes sistemas ideal para produzir padrões nanoescala em um laboratório de produção de protótipos. No entanto, porque os sistemas de feixe de electrões tem de verificar o padrão sobre uma bolacha, em vez de pisar um padrão de uma máscara preparados, eles são demasiado lentos para grandes volumes de produção de circuitos integrados.